大陸資訊網

湖南大學的黑科技是什麼原理？1nm級晶片，不依賴高精度光刻機？

前幾天，網上有一則消息刷屏了，那就是眾多媒體報導稱，湖南大學的研究團隊，成功的實現了超短溝道的垂直場效應電晶體。更重要的是，以往的晶片製造中，晶片工藝的提升，是高度依賴光刻機的精度的，比如7nm及以下的晶片，就要求EUV光刻機。而湖南大學的這種垂直場效應電晶體，由於排列方式的不同，並不完全依賴於高精度的光刻機，考慮到目前國內根本就買不到EUV光刻機，而國產光刻機精度還在90nm。